主要特點：

TriglavTM——新開發(fā)的分辨電子光學鏡筒并配備TriLensTM物鏡及探測系統(tǒng)

• 分辨率物鏡（60度浸沒式物鏡），全新的用于高分辨率分析工作的無漏磁分析物鏡，
• 重新設計用于超大視場觀察的中間鏡。
• 獨特的電子束無交叉模式與分辨率物鏡相結合，獲得了優(yōu)越的成像性能
• 傳統(tǒng)的TESCAN大視野光路設計提供各種工作和顯示模式
• 全新的EquiPower™技術進一步提高電子束的穩(wěn)定性
• 新的肖特基場發(fā)射電子槍能使電子束流高達400nA并能實現(xiàn)電子束能量的快速改變
• 通過擴展樣品室和專用支架能達到12”晶圓的SEM觀察
• TriBETM技術具有三個BSE探測器，可以選擇不同角度的信號進行采集。
• 位于鏡筒內部的Mid-Ange BSE和In-Beam LE-BSE探測器，
• 用于檢測中等角度及軸向的高角背散射電子，而樣品室的BSE探測器用于探測大角度范圍的背散射電子。
• 并且這三個探測器能探測到低于200eV的低能背散射信號，綜合在一起，他們可以提供各種不同襯度的圖像
• TriSETM技術具有三個SE探測器，對所有工作模式下采集二次電子信號都進行了優(yōu)化。
• 位于鏡筒內部的In-Beam SE探測器能在短工作距離下采集二次電子。
• 用于電子束減速模式下的SE(BDM)探測器用于分辨成像。In-Chamber SE探測器能提供很好的形貌襯度
• 電子束減速技術(BDT)能在低至50eV的低電壓下，也仍具有優(yōu)越的分辨率（選配）
• 電子束實時追蹤技術可對電子束實現(xiàn)實時優(yōu)化
• 擴展的低真空模式樣品室氣壓能達到500Pa，可用于不導電樣品的成像