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掃描電子顯微鏡品牌

提供來源:上海百賀 日期:2016年12月22日

掃描電鏡分析

 一、S4800場發(fā)射掃描電子顯微鏡

 

 加速電壓15kV下,二次電子分辨率1nm;

 加速電壓1kV下(減速模式),二次電子分辨率1.4nm;   

 材料的顯微結(jié)構(gòu),微區(qū)成分分析,低加速電壓可直接觀察不導(dǎo)電試樣。

 二、Magellan 400 場發(fā)射掃描電子顯微鏡

 

分辨率:二次電子(SE)像15kV時(shí)優(yōu)于0.8nm,1kV時(shí)優(yōu)于0.9nm,STEM模式,BF像30kV時(shí)優(yōu)于0.6nm

帶能力單色過濾器,高分辨率熱場發(fā)射掃描電鏡,低加速電壓下具有較高的分辨率,能夠直接觀察不導(dǎo)電材料的顯微結(jié)s,熱場發(fā)射肖特基電子槍,束流大,且穩(wěn)定,電子束流連續(xù)可調(diào),適用于納米尺寸的能譜(EDS)及背散射電子衍射(EBSD)的分析要求。

三、SU 82220 場發(fā)射掃描電子顯微鏡

 

分辨率:二次電子(SE)像,加速電壓15kV時(shí)優(yōu)于0.8nm;著陸電壓1kV時(shí)優(yōu)于1.1nm;

電子槍真空:優(yōu)于2*10-8;

電子束流條件范圍:5pA~10nA;

二次電子探頭:Lower,Upper,Top(含Energy filter).

新型e場發(fā)射電子槍具有更高的相干度、更高亮度、更小束斑等,因此成像質(zhì)量更好。低加速電壓下也具有較高的分辨率,這樣可以減少電子書轟擊對樣品的損傷,以及減少觀察不導(dǎo)電樣品時(shí)的荷電現(xiàn)象,可以在低加速電壓下獲得較高襯度的背散射信號。有利于分析多相納米材料,介孔材料等。

 

四、JXA-8100電子探針儀

 

材料微區(qū)成分的定性和定量分析;

元素分布的彩色顯示;

材料的顯微結(jié)構(gòu)觀察與分析;

材料中缺陷分析;失效分析。

二次電子象分辨率5nm,元素分析范圍B-U,元素檢測極限約為0.01%定量分析的總量誤差。