X射線光電子能譜儀AXIS ULTRA DLD的介紹
X射線光電子能譜儀由島津制作所Ｈ首庸?-英國(guó)KRATOS公司生產(chǎn)。AXIS ULTRA DLD 是實(shí)時(shí)成像XPS的產(chǎn)品?？臻g分辨率小于3μm。

1.可集成多種分析技術(shù)
AXIS ULTRA DLD標(biāo)準(zhǔn)配備了具有多個(gè)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)窗口的樣品處理室，作為樣品的前處理腔，功能強(qiáng)大且擴(kuò)展性強(qiáng)。能?對(duì)應(yīng)樣品加熱制冷及具有反應(yīng)功能的樣品反應(yīng)池，多樣品停放器等許多選購(gòu)件。樣品分析室可以增加UPS、FE-AES、ISS等分析方法，可以組合成復(fù)合分析裝置。
 
2.延遲線探測(cè)器（DLD）系統(tǒng)
采用了延遲線探測(cè)器。既可以生成譜圖又可以生成圖像。各測(cè)定模式均可以提供正確的脈沖計(jì)數(shù)。不僅可以在描譜儀模式下，通過128個(gè)檢測(cè)通道提供高靈敏度的測(cè)定，還可以不通過分析器的能量掃描，利用快速非掃描的“快照”譜儀模式瞬間測(cè)定窄掃描譜。成像模式能夠提供256×256像素、空間分辨率小于3μm的苑直媛釋枷瘛Ⅻbr />  
3.平行成像和微區(qū)譜圖
采用平均半徑達(dá)165mm的大型靜電半球分析器與成像專用的球鏡分析器組合的合成分析器。在進(jìn)行化學(xué)狀態(tài)分析、深度方向分析等的譜儀分析時(shí)，通過大型靜電半球分析器能夠提供高能量分辨率、高靈敏度的測(cè)定。多點(diǎn)微區(qū)測(cè)定時(shí)利用輸入透鏡內(nèi)的光電子偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)準(zhǔn)確的點(diǎn)分析。 利用球鏡分析器進(jìn)行平行成像。光電子成像的空間分辨率小于3μm，能夠在譜儀測(cè)定的同時(shí)，短時(shí)間內(nèi)得到高分辨率圖像。